复旦大学高分子科学系邓海教授微电子材料课题组2018年3月招聘博士后

薪金：年薪 18W+ 　 　

　 　　　

学历和研究方向：高分子专业（合成）背景的博士　　

　 　　　

【课题组简介】　　

　 　　　

导师简介：　　

　 　　　

    邓海博士，国家千人特聘专家，复旦大学高分子科学系，聚合物分子工程国家重点实验室，教授，博士生导师，曾任美国陶氏化学公司（前身：罗门哈斯公司）高级研究员（1998-2001）、美国英特尔公司高级主管（2001-2014），东京应用化学公司Fellow（2014-2015）。邓海教授拥有丰富的半导体产线和光刻材料的研发经验，并且与国内外半导体厂商关系密切。　　

　 　　　

主要研究领域有：　　

　 　　　

    主攻10nm以下半导体光刻材料的设计合成及应用。课题组受到科技部02专项和上海市科委的大力支持，拥有完善的光刻材料的合成，表征及性能测试平台。　　

　 　　　

课题组主页：　　

　 　　　

http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/　　

　 　　　

【课题背景简介】　　

　 　　　

    半导体制造中最关键的材料是光刻胶，有多高分辨率的光刻胶就能造出多小的器件。过去的50年内，半导体产业一直沿着Moore’slaw前行。自2003年起，半导体产业进入193nm光刻时代，这是国际上最成熟最先进的光刻技术，并将会一直沿用到10nm的光刻工艺。现在，Intel已经实现了10nm制程的量产。2018年，Intel、台积电和三星微电子都已进入了7nm分辨率的EUV光刻工艺，并将很快进行量产。面对半导体芯片领域向更小、更快和更高密度方向发展的趋势，下一代10~5nm半导体制程的光刻技术和材料已成为半导体行业的研发热点。目前国内以中芯国际为代表的半导体工艺研发也进入了14nm制程，但是国内的光刻材料与全球先进水平相比仍有着极大的差距：国内只能量产低端的i-线光刻材料（国外30年前的产品），国内的光刻胶产业几乎处于空白状态，10nm以下所需的EUVL和DSA光刻材料，目前被美国和日本企业所垄断。为了不再受制于人，我国急需研发探索10纳米以下的下一代光刻材料来打破了技术壁垒，实现弯道超车。上海市和北京市现已立项研发10nm以下分辨率的DSA材料。目前本组已研发出世界上最快速自组装的、5nm超高分辨率的DSA材料，该成果已发表在SPIE（美国光电协会）等国际会议上，目前已申请了若干中国及美国专利。　　

　 　　　

【招聘基本要求】　　

　 　　　

由于科研工作需要，本课题组招聘博士后研究员1～2名，进行10纳米以下的下一代光刻材料的研究，具体要求如下：　　

　 　　　

1、具有高分子专业（合成）背景、有机全合成背景或有高分子合成研究工作经验的博士（应届的或者有工作经验的）。　　

　 　　　

2、具有良好的英文阅读和写作能力，能快速查阅外文文献，已发表过相关领域英文论文。　　

　 　　　

3、需要具有一定的指导学生的能力。将会带领在读的硕士、博士生进行项目攻关，身体力行地带领团队研发出新型的高分辨率DSA或含金属EUV光刻材料。　　

　 　　　

4.性格开朗，有个人魅力。最好是体育爱好者。　　

　 　　　

【个人待遇】　　

　 　　　

    课题组为入选者提供优越的科研条件和稳定的支持，按照复旦大学有关博士后的规定提供相应个人待遇，课题组根据研究进展和贡献给予补贴，年薪18万起。住房：复旦大学根据申请者要求，提供学校附近一室或二室住房，租金约为市场价格一半。　　

　 　　　

【应聘申请材料】　　

　 　　　

请应聘者将申请材料（简历和代表论文全文）发至yuyunliu@fudan.edu.cn，　　

　 　　　

邮件标题注明：应聘博士后+本人姓名。　　

　 　　　

【招聘时间】　　

　 　　　

申请时间为2018年3~6月。